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作者:万博  来源:万博manbetx官网  时间:2019-12-11 23:28  点击:

  (a)联体式喷头(b)分离式喷头图1小孔喷丸喷流反射机构采用间接喷射的工艺方式由于小孔内壁喷丸加工的孔径较小(小于10mm),无论喷头是伸入孔内还是在孔外,弹丸喷射流都无法直接喷击其内表面,一般要通过间接方式改变喷流方向(图1)。

  被改向的弹丸流会形成散射状,不同的喷射机构散射的形状也不同,该特性增加了小孔喷丸强化工艺控制的难度。

  单纯通过改变激光棒的几何形状来提升光束质量已不能满足需要,只有更新的、革命性的激光才能满足提高光束质量的需求。

  由于弹丸流改向所形成的散射,在同等喷速下单位受喷区域接受喷击丸粒的数量相对较少,这在工艺上就要求在喷射液流或喷射气流中增加混丸比例。

  但混丸的比例又不能过高,否则通过反射头改向的丸粒会因密度增大互相撞击而降低效率。

  3小孔喷丸加工的喷射方式小孔喷丸加工的工艺控制与弹丸的喷射方式密切相关,不同的喷射方式决定不同的工艺控制方案,也决定喷射系统的结构和控制模式。

  因此,小孔喷丸加工的工艺特性决定了弹丸流的喷射方式要求采用间接喷射方式,它是由喷流反射机构来实现的,见图1。查询方式是一种直接的读串口方式

  反射机构的关键部件是反射头,通常有两种结构,一种是喷头与反射头联为一体的结构(图1a):另一种是喷头与反射头相分离的结构(图1b)。

  由于联体式喷头的结构较大,适用于对孔径较大的内壁进行喷丸加工的场合:而对孔径小于10mm的微小孔内壁进行喷丸加工,宜采用喷头与反射头分离的结构模式。

  本文主要针对微小孔内壁的喷丸强化加工,研究分离式喷头的结构模式,喷射方式及其喷射工艺的控制模式。

  对于分离式结构,由于反射头的型面不同,会使弹丸流形成不同的散射状,其工艺也不一样,可见对反射头的设计研究是实施喷丸强化处理工艺的前提和基础。以蓄水池为例

  图2圆锥型反射头锥型反射头锥型反射头见图2,通常其圆锥面与底圆的夹角应呈现45°角。

  当被加工件的孔径较小时,它排泄丸粒比较困难,尤其是反射头对着弹丸流逆向运动时容易卡丸。

  为了便于弹丸的排泄,反射头外壁与孔内壁的间隙(x/2)与弹丸直径r的关系为x=(3~6)r圆弧型反射头圆弧型反射头的反射面呈内凹圆弧形,见图3。复合加工刀具HSK见图7

  当弹丸流打在内凹圆弧形的反射面后向四周散射撞击孔内壁,理论上也形成一个圆盘。

  但实验表明,由于内凹圆弧面的聚集作用,撞击孔壁的弹丸相对集中,使弹丸喷击的效率大大提高。

  根据光的聚焦原理,反射头置于工件孔心时,其内凹圆弧的圆心选择在孔内壁上,见图3。

  根据平面几何原理,内凹圆弧的半径为R=[(1+x/2)2+(x/2)2]=(12+x+x2/2)图3圆弧型反射头图4斜平面反射头斜平面反射头前两种类型的反射头均不同程度地存在弹丸的排泄问题。

  与以前相比,如今要求我们的检测和测量技术能够进行无接触、全自动测量,精度达到μ级且操作独立于操作者。

  如果反射头的轴径太小,其工作面就不能达到反射型面的工艺要求,且会影响反射轴的刚性。

  这种反射头的反射面呈45°角的斜面,弹丸流撞击反射头的倾斜面改向后,单向撞击孔壁。

  这种类型的反射头除了上下运动外,还需绕自身的轴心旋转,即呈螺旋上下运动。

  4小孔喷丸加工的工艺控制模式根据小孔喷丸加工控制的基本原理,工艺控制主要是将其主要的工艺参数(如气压,喷速,混丸比,喷击时间,喷击次数等)控制转换为对喷射系统的运动控制,我们提出了采用“喷头与反射头耦合运动”的控制模式来实施其工艺控制的思路,即采用“喷头+反射头→耦合运动”的模式。

  其耦合方式有以下几种方案。此外,TRUMPF公司还为大功率激光器的工业应用研发了专用的扫描焊接头。如计算机集成电路以及设备等

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